Назначение:

Получение изображения рельефа поверхности. Измерение шероховатости, геометрии отпечатков и царапин. Построение карты механических свойств: упругих, вязких, адгезионных. Исследование магнитных, электрических неоднородностей. Литография: механическая, токовая.

Модуль нанотвердомера атомно-силовой микроскоп

Режимы и методики:

  • атомно-силовая контактная микроскопия (AFM);
  • атомно-силовая микроскопия в режиме прерывистого контакта (VAFM);
  • сканирующая туннельная микроскопия (STM);
  • атомно-силовая микроскопия высоких магнитных полей образца (M-AFM);
  • атомно-силовая микроскопия электропроводности и электрических потенциалов образца (EAFM);
  • атомно-силовая микроскопия упругих свойств образца (FM-AFM);
  • атомно-силовая микроскопия трения на поверхности образца (LF-AFM);
  • атомно-силовая микроскопия вязкости образца (V-AFM);
  • атомно-силовая микроскопия адгезионных свойств образца (AD-AFM);
  • литография в режиме атомно-силовой микроскопии (AFM-LIT);
  • измерение твердости по изображению восстановленного отпечатка;
  • расчет расширенного набора параметров шероховатости по двумерным и трехмерным изображениям рельефа поверхности в соответствии с рекомендациями международных стандартов ISO 3274, ISO 4287, ISO 13565 и ISO 16610.

Технические характеристики:

  • Поле сканирования: ХУ 40х40 мкм, Z 3.5 мкм
  • Цифровое разрешение: 0.04 нм.
  • Применяемые кантилеверы: контактные, полуконтактные, токопроводящие, магнитные